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18913268389湯生
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PVD技術是近年來出現的一種新技術,制備的薄膜具有硬度高、摩擦系數低、耐磨性好、化學穩定性好等優點。首先,在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國制造業的高度重視。在研制高性能、高可靠性涂層設備的同時,對硬質合金和陶瓷刀具進行了更深入的涂層應用研究。與CVD工藝相比,PVD工藝具有較低的加工溫度,在600℃以下對刀具材料的彎曲強度沒有影響;薄膜的內應力狀態為壓應力,更適合硬質合金精密復雜刀具的涂層;PVD工藝對環境無不良影響,符合現代綠色制造的發展方向。目前,PVD涂層技術已廣泛應用于硬質合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車削刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。
PVD技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度,而且使涂層成分由第 一代tin發展為tic、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、tialcn、tin-AlN、CNx、DLC和ta-C復合涂層。
1:什么是PVD?真空鍍膜技術
PVD是物理氣相沉積(physical vapor deposition)的英文縮寫,中文意思是“物理氣相沉積”。是指在真空條件下用物理方法將材料沉積在工件上的薄膜制備技術。
2:什么是PVD涂層?什么是PVD涂層機?
物理氣相沉積(PVD)技術主要分為三類:真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。與PVD技術的三大類相比,相應的真空鍍膜設備包括真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十年來,真空離子鍍技術發展快,已成為表面處理方法之一。我們通常所說的PVD涂層是真空離子涂層;一般來說,PVD鍍膜機是指真空離子鍍膜機。
3:PVD涂層的原理是什么?
離子鍍(PVD)技術的原理是在真空條件下采用低壓大電流電弧放電技術。目標被蒸發,蒸發的物質被氣體放電電離。在電場作用下,蒸發物質或其反應產物沉積在工件上。
4:PVD涂層與傳統的化學鍍(水鍍)相比有什么優點?
PVD涂層與傳統化學鍍的相似之處在于兩者都屬于表面處理的范疇,都能使一種材料以某種方式覆蓋另一種材料的表面。兩者的區別在于:PVD涂層與工件表面的附著力較大,涂層硬度較高,耐磨性和耐腐蝕性較好,涂層性能較穩定;PVD涂層可鍍上更廣泛的膜型,可鍍上多種顏色的膜更美觀;PVD涂層不會產生有毒或污染物質。
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