離子涂層技術廣泛應用于裝飾真空涂層機、硬質涂層真空涂層機、連續真空涂層機、汽車零部件真空涂層機等，因其沉積速度快、摩擦均勻性好、膜致密性好、繞射性好等優點，受到市場的青睞。以下是離子真空涂層機涂層技術的詳細介紹，希望能對您有所幫助：
 在真空條件下，離子鍍是利用氣體放電使氣體或蒸發物離子化，蒸發物或其反應物在氣體離子或蒸發物離子的沖擊下蒸發到工件上。包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍(空心陰極蒸鍍法)、多弧離子鍍(陰極電弧離子鍍)等。離子鍍結合了輝光放電、等離子技術和真空蒸鍍技術，不僅顯著提高了涂層的各種性能，而且大大擴大了涂層技術的應用范圍。除了真空濺射的優點外，離子鍍膜還具有附著力強、繞射性好、可鍍材料廣泛等優點。所以，近年來，國內外發展迅速。借助惰性氣體的輝光或弧光放電，離子鍍的基本原理是使金屬或合金蒸汽離子化。離子電鍍包括電鍍材料(例如TiN)、TiC）加熱、蒸發、沉積過程。經過輝光區時，一小部分蒸發的鍍膜材料原子發生電離，在電場的作用下飛向工件，并以數千電子伏的能量射入工件表面，可以進入基體幾納米的深度，從而大大提高了涂層的附著力，而未經電離的蒸發材料原子直接沉積在工件上形成薄膜。工件表面發生惰性氣體離子與鍍膜材料離子的濺射，還能去掉工件表面的污染物，從而提高附著力。
 離子真空涂層機、蒸發涂層機和磁控濺射涂層機采用不同的技術。這些涂層技術原理也有自己的優勢。可根據其涂層工件和膜層選擇不同的涂層方法，以滿足市場需求。