1、檢查真空鍍膜設備的操作控制開關是否處于“關閉”位置。 2、打開主電源開關，給真空鍍膜設備上電。 3.拉出低壓閥。打開充液閥。當聽不到氣流聲時，啟動鐘罩閥，鐘罩升起。 4.安裝固定鎢絲螺旋加熱器。將PVDF薄膜和鋁蓋板固定在旋轉盤上。將鋁線穿入螺旋加熱器。 清潔鐘罩內的所有零件，確保沒有雜質和污垢。 5.放下鐘罩。 6、啟動真空鍍膜設備的真空機械泵。 7、打開復合真空計電源（復合真空計型號：fzh-1a）。 8、當低真空表“2”中的指針再次順時針移動到6.7pa時，低壓閥被推入。 9、開啟真空鍍膜設備冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。 10.拉出低壓閥。對立式單門涂布機重復⑦動作程序一次：將左下旋鈕“1”旋至指向第2段的測量位置。 低真空計“2”中的指針順時針移動。當指針移動到6.7pa時，打開高壓閥。 PVD鍍膜分為真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜和真空蒸發鍍膜三大類。 

PVD鍍膜所用設備：通常稱為PVD真空鍍膜設備或PVD真空鍍膜機 PVD鍍膜原理：在真空環境下，采用低壓大電流的電弧放電技術，采用蒸發源加熱或加熱 輝光放電和離子轟擊用于將鍍層材料沉積在待鍍產品的表面。 PVD鍍膜：可鍍各種單金屬膜（金、銀、鋁、鋅、鈦等）和氧化膜 （TiO等）、碳化物薄膜（TIC、TiCN等）、氮化物薄膜（錫、CrN、TiAIN等），薄膜顏色可以單一 也可以鍍七種顏色。薄膜厚度為微米，真空鍍膜厚度較薄。涂膜幾乎不影響產品尺寸 。 真空濺射鍍膜： 輝光放電是濺射技術的基礎。濺射一般在輝光放電過程中產生。濺射使用粒子或具有高動能的粒子 離子束轟擊固體表面，使靠近固體表面的原子獲得入射粒子攜帶的部分能量，離開固體進入真實狀態 空產品。 影響濺射效果的因素：1靶材；2.轟擊離子的質量；3、轟擊離子的能量；4.被轟擊原子的入射角。