pvd
真空鍍膜能直接鍍在不銹鋼,鈦、鎢鋼等材質(zhì)上,可是對鐵、鋅合金、銅等壓鑄件真空鍍膜前應(yīng)先舉辦化學(xué)電鍍鉻,然后才適合鍍PVD。
PVD鍍膜技能是一種真正可以或許得到微米級鍍層,并且無污染的環(huán)保型外貌處理懲罰要優(yōu)先,它可以或許制備各類單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜(TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。
PVD鍍膜膜層的厚度為微米級,厚度較薄,一般為0.1μm——5μm,個(gè)中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm——1μm,中岳鈦金,因此可以在險(xiǎn)些不影響工件本來尺寸的環(huán)境下提高工件外貌的各類物理機(jī)能和化學(xué)機(jī)能,并可以或許維持工件尺寸根基穩(wěn)定,鍍后不須再加工。
以上就是pvd真空鍍膜能鍍哪些材質(zhì)?相關(guān)先容,更多關(guān)于電鍍方面的常識。